die meer weerstand, contact of via het heeft?

  • Thread starter santhosh.mandugula
  • Start date
Voor nonsilicide technologieën weerstand via het zal veel minder dan contact op (voor de vergelijkbare maten).Weerstand van contact hangt niet alleen af van de geometrische maten, maar ook van doping mate van materiaal waarmee contact wordt gedaan.
Voor technologieën met silicide het verschil in weerstand wordt bepaald in de regel door een verhouding van de geometrische maten, dus weerstand van contact hoger zal zijn in 1,5 tot 2 keer dan via de gebruikelijke metalen lagen en in 4 tot 6 keer voor dikke lagen metaal .

 
wat is het verschil tussen silicide en niet silicide technologie??

 
santhosh.mandugula wrote:

die meer weerstand, contact of via heeft?
 
contact weerstand is veel meer in vergelijking met de vias als het contact is mengsel van de halfgeleider-en metaal waar de vias is gewoon mengsel van de metalen.
salicid is een speciale laag cquoting ter vermindering van de weerstand.

 
Als je omhoog gaat in de structuur, zijn de weerstanden geting kleiner en kleiner, dus contacten hebben de grootste weerstand, de gebruikelijke 3-4 keer dat via1

 
Ik ben het eens contance heeft een veel hogere weerstand.

 
You must log in or register to reply here.

Welcome to EDABoard.com

Sponsor

Back
Top